セルテスNコーティングは、先進の真空プラズマ技術による低温PVDコーティングです。
PBS（プラズマブースタースパッタリング）プロセスにより成膜された１μｍ以下の窒化クロム被膜（CrN）は、表面が非常に平滑（Ra0.01μm以下）で各種光学用樹脂の離型性にすぐれています。
またビッカース硬さ1800以上のセラミック被膜ですので耐摩耗性にすぐれ、母材のNi-P無電解めっき（約400HV）を摩耗、傷から保護し耐久性を向上させます。
またNi-P 無電解めっき上の被膜の脱膜再コーティング加工も可能です。
鋼・Ni-P 無電解めっき・超硬合金等へのコーティングが可能です。

右図は超硬合金上の膜厚0.5μmのセルテスＮコーティングの24μm 角領域のAFM平面画像です。
セルテスNコーティング被膜は緻密で平滑なため、下地超硬合金母材に存在する微細なスクラッチや傷がそのまま被膜表面に反映されていることがわかります。
被膜の結晶構造に依存する表面形態を持たず母材表面を忠実に再現する緻密さ、平滑性が離型性向上に寄与していると考えられます。
（Ra0.011μm　下地粗さによる）

セルテスN